鍍層厚度(du)測(ce)量已成為加工工業、表面工程質(zhi)量(liang)(liang)(liang)檢測(ce)(ce)(ce)的(de)(de)(de)重要環節。對鍍(du)(du)層厚(hou)度(du)(du)有明確要求。鍍(du)(du)層厚(hou)度(du)(du)的(de)(de)(de)測(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)方(fang)法(fa)(fa)(fa)(fa)主要有：楔切法(fa)(fa)(fa)(fa)，光截法(fa)(fa)(fa)(fa)，電(dian)(dian)(dian)(dian)解法(fa)(fa)(fa)(fa)，厚(hou)度(du)(du)差測(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)法(fa)(fa)(fa)(fa)，稱重法(fa)(fa)(fa)(fa)，X射(she)(she)(she)(she)線(xian)熒光法(fa)(fa)(fa)(fa)，β射(she)(she)(she)(she)線(xian)反向(xiang)散(san)射(she)(she)(she)(she)法(fa)(fa)(fa)(fa)，電(dian)(dian)(dian)(dian)容法(fa)(fa)(fa)(fa)、磁(ci)性測(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)法(fa)(fa)(fa)(fa)及渦流測(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)法(fa)(fa)(fa)(fa)等(deng)等(deng)。這些方(fang)法(fa)(fa)(fa)(fa)中(zhong)前五種是有損(sun)檢測(ce)(ce)(ce)，測(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)手段繁瑣，速度(du)(du)慢，多適用(yong)(yong)(yong)于(yu)抽樣檢驗。X射(she)(she)(she)(she)線(xian)和β射(she)(she)(she)(she)線(xian)法(fa)(fa)(fa)(fa)是無(wu)接觸無(wu)損(sun)測(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)，測(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)范(fan)(fan)圍較小(xiao)，X射(she)(she)(she)(she)線(xian)法(fa)(fa)(fa)(fa)可(ke)測(ce)(ce)(ce)極薄(bo)鍍(du)(du)層、雙鍍(du)(du)層、合(he)金(jin)鍍(du)(du)層。β射(she)(she)(she)(she)線(xian)法(fa)(fa)(fa)(fa)適合(he)鍍(du)(du)層和底(di)材原(yuan)子(zi)序(xu)號(hao)大于(yu)3的(de)(de)(de)鍍(du)(du)層測(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)。電(dian)(dian)(dian)(dian)容法(fa)(fa)(fa)(fa)僅在薄(bo)導電(dian)(dian)(dian)(dian)體的(de)(de)(de)絕緣覆層測(ce)(ce)(ce)厚(hou)時采用(yong)(yong)(yong)。隨著技(ji)(ji)術(shu)的(de)(de)(de)日益進步，特別是近(jin)年來引入微(wei)機技(ji)(ji)術(shu)后，采用(yong)(yong)(yong)X射(she)(she)(she)(she)線(xian)鍍(du)(du)層測(ce)(ce)(ce)厚(hou)儀 向(xiang)微(wei)型、智(zhi)能、多功能、高精(jing)度(du)(du)、實(shi)用(yong)(yong)(yong)化的(de)(de)(de)方(fang)向(xiang)進了一步。測(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)的(de)(de)(de)分辨率(lv)已達(da)0.1微(wei)米，精(jing)度(du)(du)可(ke)達(da)到1%，有了大幅度(du)(du)的(de)(de)(de)提(ti)高。它適用(yong)(yong)(yong)范(fan)(fan)圍廣，量(liang)(liang)(liang)程寬(kuan)、操作簡便(bian)且價廉，是工業和科研使用(yong)(yong)(yong)廣泛(fan)的(de)(de)(de)測(ce)(ce)(ce)厚(hou)儀器(qi)。
鍍層測厚儀是將X射(she)線(xian)(xian)照射(she)在(zai)(zai)樣(yang)(yang)品(pin)上，通過從樣(yang)(yang)品(pin)上反射(she)出來(lai)的(de)(de)(de)(de)第二(er)次(ci)X射(she)線(xian)(xian)的(de)(de)(de)(de)強(qiang)度來(lai)。測量鍍層等(deng)金(jin)屬薄膜的(de)(de)(de)(de)厚度，因(yin)為沒有(you)接觸(chu)到樣(yang)(yang)品(pin)且照射(she)在(zai)(zai)樣(yang)(yang)品(pin)上的(de)(de)(de)(de)X射(she)線(xian)(xian)只有(you)45-75W左右，所以不會(hui)對樣(yang)(yang)品(pin)造成(cheng)損壞。同時，測量的(de)(de)(de)(de)也可以在(zai)(zai)10秒到幾分鐘內完成(cheng)。
鍍層測厚儀(yi)應用
用磁性傳感器(qi)測(ce)量(liang)鋼、鐵等鐵磁質金屬基(ji)體(ti)上的非(fei)鐵磁性涂層(ceng)、鍍層(ceng)，例如：漆、粉末(mo)、塑(su)料、橡(xiang)膠、合(he)成材(cai)料、磷化(hua)層(ceng)、鉻、鋅、鉛、鋁(lv)、錫(xi)、鎘、瓷(ci)、琺瑯、氧化(hua)層(ceng)等。用渦流傳感器(qi)測(ce)量(liang)銅、鋁(lv)、鋅、錫(xi)等基(ji)體(ti)上的琺瑯、橡(xiang)膠、油漆、塑(su)料層(ceng)等。
測量方法(fa)
鍍層(ceng)厚度(du)(du)的測(ce)量(liang)(liang)方法(fa)(fa)主要有：楔切法(fa)(fa)，光截法(fa)(fa)，電解法(fa)(fa)，厚度(du)(du)差測(ce)量(liang)(liang)法(fa)(fa)，稱重法(fa)(fa)，X射(she)線熒光法(fa)(fa)，β射(she)線反向散射(she)法(fa)(fa)，電容(rong)法(fa)(fa)、磁性測(ce)量(liang)(liang)法(fa)(fa)及渦流測(ce)量(liang)(liang)法(fa)(fa)等等。這些方法(fa)(fa)中前五(wu)種是有損檢測(ce)，測(ce)量(liang)(liang)手段繁瑣，速度(du)(du)慢，多適用(yong)于抽樣檢驗。
X射(she)線(xian)(xian)和(he)β射(she)線(xian)(xian)法(fa)是無接觸無損測量(liang)，測量(liang)范圍(wei)較(jiao)小，X射(she)線(xian)(xian)法(fa)可測極(ji)薄鍍層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)、雙鍍層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)、合(he)金鍍層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)。β射(she)線(xian)(xian)法(fa)適合(he)鍍層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)和(he)底材原子序號大于3的鍍層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)測量(liang)。電容法(fa)僅在薄導(dao)電體的絕緣覆層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)測厚時采(cai)用。
